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簡要描述：華測-高溫快速爐測試儀器-高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象
產(chǎn)品型號：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2023-08-29訪 問 量：2375產(chǎn)品分類
Product Category詳細介紹
| 品牌 | HUACE/北京華測 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 綜合 |
產(chǎn)品介紹
華測-高溫快速爐可實現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。
華測-高溫快速爐提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，在試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面講，都節(jié)省時間并提高實驗速度。
同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統(tǒng)an全可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現(xiàn)溫度控制cao作！
設備優(yōu)勢
高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設氣體冷卻裝置，可實現(xiàn)快速冷卻。
溫度控制
過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度（遠比普通加溫方式）。此外，冷卻速度和保持在溫度下可提供。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），cao作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
反射爐溫度控制裝置
高速升溫時，配套的快速反應的紅外線反射爐控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高緊湊設計，響應速度愉。
為了高速加熱、設備采用PID溫度控制，同時采用移相觸發(fā)技術保證試驗溫度。
l 據(jù)設備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)，您也可以簡單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)。
l 自適應熱電偶包括JS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型
l 大可設定32個程序、256個步驟的程序。
l 30A、60A、120A內(nèi)置了SCR電路，所以范圍很廣。
l 250mmW*80mmD*57mmH小巧尺寸
設備配置
公司簡介
我們北京華測公司從儀器生產(chǎn)、an全防護、數(shù)據(jù)采集、通訊網(wǎng)絡實現(xiàn)到云管理系統(tǒng)為用戶提供有競爭力的系統(tǒng)級方案與服務，幫助用戶在新材料研發(fā)與檢測獲得成功。
華測-高溫快速爐測試儀器
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